Mit der Helios 5 DualBeam analysieren wir Materialien und Oberflächen auf höchstem Niveau. Die Kombination aus Rasterelektronenmikroskop (REM, engl. SEM) und fokussiertem Ionenstrahl (FIB) ermöglicht es, Proben gezielt aufzubereiten, Querschnitte zu untersuchen und selbst feinste strukturelle Details sichtbar zu machen, einschließlich Partikel- und Polymerstrukturen.
Die Ankopplung des TOFWERK Time-of-Flight-SIMS-Detektors liefert zusätzlich die chemische Zusammensetzung über freigesetzte Sekundärionen. So entsteht eine dreidimensionale Darstellung von Struktur und Chemie bis in den Nanometerbereich – alles in nur einem Messvorgang.
Am ILM steht Ihnen mit diesem System ein in Deutschland einzigartiges Hochleistungs-Analysesystem zur Verfügung, das 3D-chemische Bildgebung mit nanometergenauer Tiefenauflösung bietet. Dank der korrelativen Analytik sehen Sie gleichzeitig strukturelle, chemische und funktionale Eigenschaften Ihrer Materialien – von der Oberflächenmorphologie über Schichtdicken bis hin zu elementaren Zusammensetzungen. So lassen sich selbst komplexe Material- und Bioproben präzise charakterisieren
Mit diesen Informationen gewinnen Sie ein umfassendes Verständnis und können fundierte Entscheidungen in Materialentwicklung, Qualitätskontrolle oder biomedizinischer Forschung treffen.
Profitieren Sie von unserer Expertise und finden Sie maßgeschneiderte Lösungen für Ihre Fragestellungen. Wir bieten qualifizierten Erstkunden kostenlose Probemessungen.
Alle technischen Informationen finden Sie in unserem Datenblatt. Lassen Sie uns noch heute ins Gespräch kommen – wir freuen uns auf Ihre Anfrage!


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